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半导体蚀刻低温工艺控制制冷机组选型，价格，方案等与江苏康士捷机械设备有限公司沟通，多案例供参考。
康士捷生产的工业控温设备有高温型（5℃～35℃）、中温型（-5℃～-40℃）、低温型（-40℃～-80℃）、超低温型（-150℃～-80℃）、冷热两用型（-150℃～+300℃）等系列产品供贵司选用。制冷量大小都有，有防爆型，防腐型，撬装式，变频型等。接受非标定做。温度稳定性±0.1℃等可选。
以下列出部分参数，贵司参数沟通选型后确认。
半导体蚀刻低温工艺控制制冷机组
典型温区：
常规蚀刻：-30°C～-60°C（如硅蚀刻、氧化物蚀刻）。
深低温蚀刻：-60°C～-100°C（如高深宽比结构、低温等离子体蚀刻）。
核心要求：
温度稳定性：±0.1°C（避免反应速率波动）。
快速响应：降温速率≥5°C/min（工艺切换需求）。
洁净度：无油污染（防止腔体污染）。
适用场景：-40°C～-100°C，中等冷量需求（5～50kW）。
工质组合：
高温级：R507A/R448A（-40°C蒸发）。
低温级：R23/R14（-80°C以下需R14或氦气）。
优势：连续运行、能效比高（COP＞1.0@-80°C）。
适用场景：超低温（-150°C以下）、极小冷量（如科研级蚀刻）。
半导体蚀刻低温工艺控制制冷机组选型与江苏康士捷机械设备有限公司沟通。
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